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供应GRISH CMP抛光液 研磨液 蓝宝石

供应GRISH CMP抛光液 研磨液 蓝宝石
会员类型: 普通会员
产品品牌: 国瑞升
所属分类: 磨料-其他
产品库存: 有货

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有效期:2020-05-30

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详细介绍


GRISH纳米二氧化硅抛光液(CMP

我公司系列硅溶胶产品均是以高纯硅粉为原料,经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品,广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光,如:硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟,精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。具有应用领域广、抛光效率高、杂质含量低、抛光后容易清洗等特点。如:硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。可生产不同粒度(10~150 nm)的产品满足用户需求。根据pH值的不同可分为酸性抛光液和碱性抛光液。
产品的特点:
    1. 高抛光速率,利用大粒径的胶体二氧化硅粒子达到高速抛光的目的(可以生产150 nm)
    2. 粒度可控,根据不同需要,可生产不同粒度的产品(10-150 nm)
    3. 高纯度(Cu2+含量小于50 ppb),有效减小对电子类产品的沾污
    4. 高平坦度加工,本品抛光是利用SiO2的胶体粒子,不会对加工件造成物理损伤,达到高平坦化加工
 抛光液基本性质
碱性型号(pH:9.8±0.5) SOQ-2A SOQ-4A SOQ-6A SOQ-8A SOQ-10A SOQ-12D
酸性型号(pH:2.8±0.5) ASOQ-2A ASOQ-4A ASOQ-6A ASOQ-8A ASOQ-10A ASOQ-12D
粒径(nm) 10~30 30~50 50~70 70~90 90~110 110~130
外观 乳白色或半透明液体
比重 1.15±0.05
组成 成份 含量(w%)
SiO2 15~30
Na2O ≤0.3
重金属杂质 ≤50 ppb
 
 
抛光液组成
成份
含量(w%)
SiO2
15~30
Na2O
≤0.3
重金属杂质
≤50 ppb
 
 
抛光参数(参考值)
抛光压力
150~250 g/cm2
抛光温度
32~40 ℃
稀 释 率
<1:1~20
抛光时间
3~6 min
 
 
注:本抛光参数只适用于硅片的抛光。
包  装:500 ml/瓶,25 Kg/桶,或200 Kg/桶。
储  存:储存温度0~35 ℃,在0 ℃以下因产生不可再分散凝胶而失效,温度高于35 ℃条件下储存会促使微生物生长和加速凝胶化,缩短储藏期。上述条件下碱性抛光液可存放两年左右,酸性抛光液可存放半年左右。       
 
应用范围:
1、硅晶圆片抛光;锗片抛光;砷化镓抛光;磷化铟抛光;光学晶体抛光;蓝宝石衬底抛光;LED衬底抛光;
2、硒化锌抛光;光纤连接器抛光;光纤跳线抛光;玻璃抛光;石英抛光,CMP抛光液;

公司名称:北京国瑞升科技股份有限公司

地址:北京市海淀区上地信息路12号中关村发展大厦C-402 100085

联系人:郝女士(市场)

Tel: 010-51653168

Mobile:13811506454

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郝女士 女士

公司性质:股份有限公司
经营模式:生产/制造/销售
所属地区:北京市-北京市
企业法人:葛丙恒

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电子邮箱:grish@bjgrish.com
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